약한 초점

위치 분산이 있는 입자 뭉치는 자기장에 집중된다.실제로는 빔이 한 점까지 집중되지 않고, 분화로 인해 한정된 스폿 크기를 유지하게 된다.

전하 입자가 균일한 자기장을 통과할 때 입자 가속기에서 약한 초점이 발생하여 로렌츠 힘에 의해 원형 경로로 이동하게 된다.원형의 움직임 때문에 위치가 약간 다른 두 입자의 궤도는 서로 근사하거나 심지어 교차할 수도 있다.

입자 빔은 유한한 에미턴스를 가지고 있기 때문에, 이 효과는 원하는 입자 궤도에서 편차의 성장을 막기 위해 사이클로트론과 초기 싱크로트론에서 사용되었다.그 정의 때문에 현대 가속기 설비의 쌍극자석에서도 발생하며 빔 광학 계산에서도 고려해야 한다.현대 시설에서 빔 포커싱의 대부분은 대개 4극 자석에 의해 이루어지는데, 강 포커스를 사용하여 빔의 크기가 작아지고 진공 챔버가 가능해져 평균 자석 크기가 감소한다.