자기석학

Magnetolithography

마그네토리스토그래피(ML)는 웨이퍼 표면을 패터링하기 위한 포토레지스트(Potoresist) 무광석판도법이다. 웨이퍼 상면 또는 후면에 위치한 "자기 마스크"라는 이름의 파라마그네틱 메탈 마스크를 사용하여 기질에 자기장을 적용하는 ML.[1][2] 자기 마스크는 적용된 자기장의 공간적 분포와 형태를 규정한다는 점에서 광석학에서 포토마스크와 유사하다.[2] 그러나 자기 마스크의 제작에는 기존의 광석학 및 광석학자의 사용이 포함된다.[2] 이 과정의 두 번째 구성 요소는 강자성 나노입자(광석학에서 광자성자에 대한 아날로그, 예를 들어 코발트 나노입자)로, 식각제나 퇴적 물질(예: 도파제 또는 금속층)의 영역을 차단하는 마스크에 의해 유도된 영역에 따라 기질 위로 조립된다.[1][2]

ML은 긍정적 또는 부정적 접근법을 적용하기 위해 사용될 수 있다. 양성 접근법에서 자기 나노입자는 화학적으로 반응하거나 기질과의 화학적 인식을 통해 상호작용한다. 따라서 자기 나노입자는 선택된 위치에서 고정되며, 마스크가 자기장을 유도하여 패턴이 있는 기질이 된다. 음극 접근법에서 자기 나노입자는 기질에 불활성이다. 따라서 일단 기질을 패턴화하면 기질에 있는 결합 부위가 다른 반응 물질과 반응하는 것을 차단한다. 반응제 흡착 후 나노입자가 제거되어 음의 패턴 기질이 생긴다.

또한 ML은 백그라운드 석판화로서, 정렬 정확도가 높고 모든 레이어에 동일한 효율로 멀티레이어 생산이 용이하다는 장점이 있다.

참조

  1. ^ a b "Magnetolithography: From the Bottom-Up Route to High Throughput". Advances in Imaging and Electron Physics. 164: 1–27. 2010-01-01. doi:10.1016/B978-0-12-381312-1.00001-8. ISSN 1076-5670.
  2. ^ a b c d edited by Peter W. Hawkes (2010). Advances in imaging and electron physics. Volume 164. Amsterdam: Academic Press. ISBN 978-0-12-381313-8. OCLC 704352532. {{cite book}}: last= 일반 이름 포함(도움말)
  • Bardea, Amos; Burshtein, Noa; Rudich, Yinon; Salame, Tomer; Ziv, Carmit; Yarden, Oded; Naaman, Ron (2011-12-15). "Sensitive Detection and Identification of DNA and RNA Using a Patterned Capillary Tube". Analytical Chemistry. American Chemical Society (ACS). 83 (24): 9418–9423. doi:10.1021/ac202480w. ISSN 0003-2700. PMID 22039991.
  • Bardea, Amos; Naaman, Ron (2010). "Magnetolithography". Advances in Imaging and Electron Physics. Vol. 164. Elsevier. pp. 1–27. doi:10.1016/b978-0-12-381312-1.00001-8. ISBN 978-0-12-381312-1. ISSN 1076-5670.
  • Kumar, Tatikonda Anand; Bardea, Amos; Shai, Yechiel; Yoffe, Alexander; Naaman, Ron (2010-06-09). "Patterning Gradient Properties from Sub-Micrometers to Millimeters by Magnetolithography". Nano Letters. American Chemical Society (ACS). 10 (6): 2262–2267. Bibcode:2010NanoL..10.2262K. doi:10.1021/nl1013635. ISSN 1530-6984. PMID 20491500.
  • Bardea, Amos; Baram, Aviad; Tatikonda, Anand Kumar; Naaman, Ron (2009-12-30). "Magnetolithographic Patterning of Inner Walls of a Tube: A New Dimension in Microfluidics and Sequential Microreactors". Journal of the American Chemical Society. American Chemical Society (ACS). 131 (51): 18260–18262. doi:10.1021/ja908675c. ISSN 0002-7863.
  • Bardea, Amos; Naaman, Ron (2009-05-19). "Submicrometer Chemical Patterning with High Throughput Using Magnetolithography". Langmuir. American Chemical Society (ACS). 25 (10): 5451–5454. doi:10.1021/la900601w. ISSN 0743-7463. PMID 19382781.
  • Bardea, Amos; Naaman, Ron (2009-02-06). "Magnetolithography: From Bottom-Up Route to High Throughput". Small. Wiley. 5 (3): 316–319. doi:10.1002/smll.200801058. ISSN 1613-6810. PMID 19123174.