10 µm 공정

10 μm 공정(10 micron 최소 치수)은 1971년경 ^[1]^[2]RCA, 인텔 등 유수의 반도체 기업들이 상업적으로 도달한 MOSFET 반도체 공정 기술 수준입니다.

10 μm 제조 공정을 특징으로 하는 제품

RCA의 CD4000 계열의 집적회로는 1968년에 20μm 공정으로 시작하여 점차 다운스케일링되어 다음 몇 년 동안 10μm에 도달했습니다.^[3]
1970년 출시된 초기 DRAM 칩인 인텔 1103은 8μm 공정을 사용했습니다.^[4]
1971년 출시된 인텔 4004 CPU는 10μm 공정을 이용하여 제작되었습니다.^[5]
1972년 출시된 인텔 8008 CPU는 이 공정을 이용하여 제조되었습니다.^[5]

^ Mueller, S (21 July 2006). "Microprocessors from 1971 to the Present". informIT. Retrieved 11 May 2012.
^ Myslewski, R (15 November 2011). "Happy 40th birthday, Intel 4004!". TheRegister. Archived from the original on 19 April 2015. Retrieved 19 April 2015.
^ Lojek, Bo (2007). History of Semiconductor Engineering. Springer Science & Business Media. p. 330. ISBN 9783540342588.
^ Lojek, Bo (2007). History of Semiconductor Engineering. Springer Science & Business Media. pp. 362–363. ISBN 9783540342588. The i1103 was manufactured on a 6-mask silicon-gate P-MOS process with 8 μm minimum features. The resulting product had a 2,400 μm, 2 memory cell size, a die size just under 10 mm², and sold for around $21.
^ ^a ^b "History of the Intel Microprocessor - Listoid". Archived from the original on 27 April 2015. Retrieved 19 April 2015.

앞에 20 μm 공정	MOSFET 반도체 소자 제작 공정	성공자 6μm 공정

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반도체 장치 날조

MOSFET 스케일링 (프로세스 노드)
020 µm – 1968 010 µm – 1971 006 µm – 1974 003 µm ~ 1977 1.5 µm – 1981 001 µm – 1984 800nm ~ 1987 600nm – 1990 350nm – 1993 250nm~1996 180nm ~ 1999 130nm – 2001 090nm – 2003 065nm – 2005 045nm – 2007 032nm – 2009 022nm – 2012 014nm – 2014 010nm – 2016 007nm – 2018 005nm – 2020 003nm – 2022
미래. 002nm ~ 2024
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